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氟硫酸铈二阶非线性光学晶体材料及其制备方法与应用_关于氟硫酸铈二阶非线性光学晶体材料及其制备方法与应用简述|微头条

来源:互联网    时间:2023-05-27 03:08:18


(相关资料图)

1、 《氟硫酸铈二阶非线性光学晶体材料及其制备方法与应用》是同济大学于2021年2月19日申请的专利,该专利公布号为CN112981537A,专利公布日为2021年6月18日,发明人是张弛、吴天辉、吴超。

2、  。

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